蒸镀的物理过程包括：沉积材料蒸发或升华为气态粒子→气态粒子快速从蒸发源向基片表面输送→气态粒子附着在基片表面形核、长大成固体薄膜→薄膜原子重构或产生化学键合。
将基片放入真空室内，以电阻、电子束、激光等方法加热膜料，使膜料蒸发或升华，气化为具有一定能量（0.1～0.3eV）的粒子（原子、分子或原子团）。气态粒子以基本无碰撞的直线运动飞速传送至基片，到达基片表面的粒子一部分被反射，另一部分吸附在基片上并发生表面扩散，沉积原子之间产生二维碰撞，形成簇团，有的可能在表面短时停留后又蒸发。
客服热线：
0535-6999882 / 0535-6115650
一厂区：烟台市福山区魏山路55号
二厂区：烟台市开发区北京南路4号3号厂房
项目电话：17616051065/17616051165
邮箱：youshanshan@tming.com
 |  |
| 手机网站 | 微信公众号 |
