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蒸镀的物理过程包括：沉积材料蒸发或升华为气态粒子→气态粒子快速从蒸发源向基片表面输送→气态粒子附着在基片表面形核、长大成固体薄膜→薄膜原子重构或产生化学键合。 将基片放入真空室内，以电阻、电子束、激光等方法加热膜料，使膜料蒸发或升华，
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蒸镀的物理过程包括：沉积材料蒸发或升华为气态粒子→气态粒子快速从蒸发源向基片表面输送→气态粒子附着在基片表面形核、长大成固体薄膜→薄膜原子重构或产生化学键合。 将基片放入真空室内，以电阻、电子束、激光等方法加热膜料，使膜料蒸发或升华，
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蒸镀的物理过程包括：沉积材料蒸发或升华为气态粒子→气态粒子快速从蒸发源向基片表面输送→气态粒子附着在基片表面形核、长大成固体薄膜→薄膜原子重构或产生化学键合。 将基片放入真空室内，以电阻、电子束、激光等方法加热膜料，使膜料蒸发或升华，
